一種半導(dǎo)體硅片超聲和兆聲清洗系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010580316.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111701947A 公開(kāi)（公告）日 2021-06-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN111701947A 申請(qǐng)公布日 2021-06-22
分類號(hào) B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67 分類 清潔;
發(fā)明人 張正偉;周伯成;王永東;王圣福;劉宇航 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 安徽富樂(lè)德科技發(fā)展股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 銅陵市天成專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李坤
地址 244000 安徽省銅陵市金橋經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體硅片超聲和兆聲清洗系統(tǒng)，包括對(duì)半導(dǎo)體硅片進(jìn)行超聲清洗和兆聲清洗的清洗槽。本發(fā)明所述半導(dǎo)體硅片超聲和兆聲清洗系統(tǒng)通過(guò)先對(duì)半導(dǎo)體硅片進(jìn)行超聲清洗，再對(duì)其進(jìn)行兆聲清洗。進(jìn)行超聲清洗的超聲清洗區(qū)，其聲能主要是來(lái)源于兆聲清洗區(qū)，超聲清洗和兆聲清洗同時(shí)進(jìn)行，清洗效果好。本發(fā)明所述半導(dǎo)體硅片超聲和兆聲清洗系統(tǒng)能夠在短時(shí)間內(nèi)清洗掉半導(dǎo)體硅片表面附著的微粒，清洗效果好，清洗效率高，耗能少。