一種半導(dǎo)體硅片超聲和兆聲清洗系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010580316.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111701947B | 公開（公告）日 | 2021-06-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111701947B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-22 |
| 分類號(hào) | B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67 | 分類 | 清潔; |
| 發(fā)明人 | 張正偉;周伯成;王永東;王圣福;劉宇航 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 安徽富樂(lè)德科技發(fā)展股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 銅陵市天成專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 李坤 |
| 地址 | 244000 安徽省銅陵市金橋經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體硅片超聲和兆聲清洗系統(tǒng)，包括對(duì)半導(dǎo)體硅片進(jìn)行超聲清洗和兆聲清洗的清洗槽。本發(fā)明所述半導(dǎo)體硅片超聲和兆聲清洗系統(tǒng)通過(guò)先對(duì)半導(dǎo)體硅片進(jìn)行超聲清洗，再對(duì)其進(jìn)行兆聲清洗。進(jìn)行超聲清洗的超聲清洗區(qū)，其聲能主要是來(lái)源于兆聲清洗區(qū)，超聲清洗和兆聲清洗同時(shí)進(jìn)行，清洗效果好。本發(fā)明所述半導(dǎo)體硅片超聲和兆聲清洗系統(tǒng)能夠在短時(shí)間內(nèi)清洗掉半導(dǎo)體硅片表面附著的微粒，清洗效果好，清洗效率高，耗能少。 |
