一種導電型碳化硅單晶及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011536526.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112725893A | 公開(公告)日 | 2021-04-30 |
申請公布號 | CN112725893A | 申請公布日 | 2021-04-30 |
分類號 | C30B29/36;C30B23/00 | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 劉春俊;雍慶;婁艷芳;趙寧;姚靜;王波;彭同華;楊建 | 申請(專利權)人 | 江蘇天科合達半導體有限公司 |
代理機構 | 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 付麗 |
地址 | 102600 北京市大興區(qū)中關村科技園區(qū)大興生物醫(yī)藥產(chǎn)業(yè)基地天榮大街9號2幢301室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種導電型碳化硅單晶,摻雜元素包括氮和原子半徑大于硅的原子半徑的元素;所述導電型碳化硅單晶的電阻率為0.01Ω·cm~0.05Ω·cm;所述原子半徑大于硅的原子半徑的元素的摻雜濃度為氮元素濃度的0.1%到10%。本發(fā)明中的碳化硅晶體,在氮元素摻入的基礎上,通過原子半徑大于硅的原子半徑的元素的引入,并控制氮和原子半徑大于硅的原子半徑的元素的濃度,在保證電阻率處于導電類型碳化硅單晶襯底要求的基礎上,能夠補償?shù)雍吞荚映叽绮町愐鸬木Ц窕?,降低晶體的內(nèi)應力,降低晶體內(nèi)部的位錯密度。本發(fā)明還提供了一種導電型碳化硅單晶的制備方法。 |
