硅片對準標記的曝光裝置和曝光方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710561689.9 申請日 -
公開（公告）號 CN107145043A 公開（公告）日 2017-09-08
申請公布號 CN107145043A 申請公布日 2017-09-08
分類號 G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 黃惠杰;朱箐 申請（專利權(quán)）人 上海鐳慎光電科技有限公司
代理機構(gòu) 上海恒慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 上海鐳慎光電科技有限公司
地址 201821 上海市嘉定區(qū)葉城路1288號6幢J832室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種硅片對準標記的曝光裝置和曝光方法，曝光裝置由光源模塊、照明模塊、能量監(jiān)測模塊、成像模塊、安裝主框架、硅片高度傳感器、掩模臺、硅片臺和控制模塊組成，本發(fā)明包含兩個以上的照明?成像單元，可在硅片表面同時進行兩個或兩個以上對準標記的曝光。節(jié)省了硅片對準標記的曝光時間，從而提高了IC生產(chǎn)線的生產(chǎn)效率，節(jié)省了IC生產(chǎn)成本。