免疫層析試紙條散射光場空間分布的測量裝置及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510687786.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN105353115B | 公開(公告)日 | 2017-05-31 |
申請公布號 | CN105353115B | 申請公布日 | 2017-05-31 |
分類號 | G01N33/53(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I;G01N21/49(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 黃立華;肖陽;胡卓非;何薇羽;凌麗青;郭凱;黃惠杰 | 申請(專利權(quán))人 | 上海鐳慎光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人 | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所;上海鐳慎光電科技有限公司 |
地址 | 201800 上海市嘉定區(qū)上海市800-211郵政信箱 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種免疫層析試紙條散射光場空間分布的測量裝置,包括照明光路機(jī)構(gòu)、參考光路機(jī)構(gòu)、入射光路機(jī)構(gòu)、供待測免疫層析試紙放置的二維傾斜平臺、散射光路機(jī)構(gòu)、三維平移平臺和數(shù)據(jù)采集與控制系統(tǒng),及測量方法。本發(fā)明消除光源不穩(wěn)定性所帶來的影響,實(shí)現(xiàn)免疫層析試紙條上入射角的改變,從而使整個(gè)裝置實(shí)現(xiàn)不同入射角下散射光場空間分布的測量,實(shí)現(xiàn)在同一入射角的情況下,在不同空間點(diǎn)處一連續(xù)區(qū)域內(nèi)散射光場的測量,可滿足混濁介質(zhì)散射光場的測量,對同一空間點(diǎn),采用相對熒光光場強(qiáng)度相對激發(fā)光散射光場強(qiáng)度比值,對提高免疫層析類儀器的信噪比提供了有力的工具。 |
