一種金屬支架拋光設(shè)備及工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110778992.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113481584A 公開（公告）日 2021-10-08
申請公布號 CN113481584A 申請公布日 2021-10-08
分類號 C25F3/16（2006.01）I;C25F7/00（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 趙杰;顧怡;吳健平;李志剛;王國輝 申請（專利權(quán)）人 上海心瑋醫(yī)療科技股份有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 200120上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)臨港新片區(qū)正博路356號38幢第1層、第3層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種金屬支架拋光設(shè)備及工藝，其中，包括：電控系統(tǒng)；電解槽，其內(nèi)有拋光液；拋光機構(gòu)，用以夾持金屬支架于所述電解槽內(nèi)進行電解拋光處理，其中，所述電控系統(tǒng)用以控制所述拋光處理中的電解拋光參數(shù)，所述電解拋光參數(shù)包括，拋光液溫度，金屬支架電解拋光的電壓和電流大小，以及電解拋光工作模式。其技術(shù)方案的有益效果在于，金屬支架可直接進行電解拋光，不需機械拋光，省時、拋光效率高；通過電控系統(tǒng)與電解槽及拋光機構(gòu)之間的配合，可以使拋光后支架尺寸均勻、表面光亮、可達到鏡面效果；提供多種夾持工裝、拋光方式，可根據(jù)不同支架結(jié)構(gòu)合理選擇拋光工藝。