一種測量流場壓力場的方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510071211.9 申請日 -
公開（公告）號 CN104634503A 公開（公告）日 2015-05-20
申請公布號 CN104634503A 申請公布日 2015-05-20
分類號 G01L11/02(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 高琪;王中一;王晉軍;魏潤杰 申請（專利權(quán)）人 北京立方天地科技發(fā)展有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張穎玲;蔣雅潔
地址 100083 北京市海淀區(qū)學(xué)院路37號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種測量流場壓力場的方法，包括：對測量區(qū)域進(jìn)行單次曝光粒子圖像測速(PIV)實(shí)驗(yàn)，獲取彩色粒子圖像；所述彩色粒子圖像記錄有三種單色脈沖光源在同一曝光時間內(nèi)的不同時刻照射的流場信息；分別對三種單色脈沖光源進(jìn)行流場粒子成像，分析各種單色光對三個圖層光強(qiáng)的貢獻(xiàn)，獲取光強(qiáng)標(biāo)定函數(shù)；根據(jù)所述光強(qiáng)標(biāo)定函數(shù)對所述彩色粒子圖像進(jìn)行圖層拆分；對拆分后的彩色粒子圖像進(jìn)行互相關(guān)分析，獲得流場速度場；根據(jù)所述流場速度場確定流場壓力場。本發(fā)明還同時公開了一種測量流場壓力場的裝置，采用本發(fā)明，能解決現(xiàn)有技術(shù)中采用PIV測量流場壓力場時對硬件要求高的問題，降低了實(shí)驗(yàn)成本，有利于PIV流場壓力場測量技術(shù)的普及。