真空熔煉制備磁控濺射靶的冷卻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910930900.9 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN112570691B 公開（公告）日 2021-12-07
申請公布號(hào) CN112570691B 申請公布日 2021-12-07
分類號(hào) B22D27/04（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 鑄造；粉末冶金;
發(fā)明人 劉月玲;劉潤海 申請（專利權(quán)）人 京磁材料科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 史霞
地址 101300北京市順義區(qū)仁和鎮(zhèn)順通路31號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種真空熔煉制備磁控濺射靶的冷卻裝置，包括：冷卻水槽，其內(nèi)部平行間隔設(shè)有兩個(gè)隔層，兩個(gè)隔層密封卡設(shè)在冷卻水槽的相對兩側(cè)壁之間，以將冷卻水槽分隔為位于兩側(cè)的冷水腔和位于中間的冷卻腔，冷水腔設(shè)有進(jìn)水口和出水口，每個(gè)隔層包括依次貼附設(shè)置的鋼板、保溫板、耐高溫板，其中，鋼板與冷卻腔接觸，耐高溫板與冷水腔接觸；一對模具，一個(gè)模具貼附設(shè)置在一個(gè)隔層上方，每個(gè)模具均具有一個(gè)缺口，一對模具對合后的缺口形成一個(gè)漏液口。本發(fā)明通過一對模具使得澆鑄口的毛刺等缺陷延伸到漏液口處，確保獲得的靶材成品不會(huì)殘留因澆鑄口帶來的缺陷，本發(fā)明讓冷卻過程達(dá)到一個(gè)平衡點(diǎn)，確保最終的用于磁控濺射的靶材的品質(zhì)，無裂紋縮孔。