光學(xué)器件及其形成方法和光學(xué)系統(tǒng)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910749780.2 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112394434A | 公開（公告）日 | 2021-02-23 |
| 申請公布號 | CN112394434A | 申請公布日 | 2021-02-23 |
| 分類號 | G02B5/18(2006.01)I | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 陳志東 | 申請（專利權(quán)）人 | 深圳鉛筆視界科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海知錦知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 高靜 |
| 地址 | 518071廣東省深圳市南山區(qū)桃源街道平山一路民企科技園5棟206室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種光學(xué)器件及其形成方法和光學(xué)系統(tǒng)。其中，所述光學(xué)器件，包括一個(gè)光學(xué)元件或者多個(gè)陣列排布的光學(xué)元件，所述光學(xué)元件包括:第一透光基材，具有第一表面以及與第一表面相對的第一貼合面；衍射元件，通過所述第一貼合面與所述第一透光基材固定在一起；第二透光基材，具有與所述衍射元件固定在一起的第二貼合面，以及與所述第二貼合面相對的第二表面；所述第一透光基材和所述第二透光基材的折射率與所述衍射元件的折射率相當(dāng)。本發(fā)明還提供形成所述光學(xué)器件的方法以及包括所述光學(xué)器件的光學(xué)系統(tǒng)，本發(fā)明可以減小雜散光的干擾。?? |
