一種氮化硅熱壓燒結設備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111657931.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114413629A | 公開(公告)日 | 2022-04-29 |
申請公布號 | CN114413629A | 申請公布日 | 2022-04-29 |
分類號 | F27B17/00(2006.01)I;F27D99/00(2010.01)I | 分類 | 爐;窯;烘烤爐;蒸餾爐〔4〕; |
發(fā)明人 | 陳全 | 申請(專利權)人 | 蘇州昂炻高新材料科技有限公司 |
代理機構 | 北京酷愛智慧知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 劉娟 |
地址 | 215299江蘇省蘇州市吳江區(qū)江陵街道長安路2358號吳江科技創(chuàng)業(yè)園綜合樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種氮化硅熱壓燒結設備,涉及氮化硅熱壓燒結設備技術領域,本發(fā)明包括工作臺,工作臺上端設置有殼體,殼體內(nèi)設置加熱裝置,殼體的下端開設有第一通孔,工作臺貫穿開設有第二通孔,工作臺的下方設置有能經(jīng)第二通孔和第一通孔進入到殼體內(nèi)的承壓板,通孔內(nèi)設置有密封組件,殼體內(nèi)設置有能沿豎直方向移動的豎向壓板,殼體內(nèi)還設置有能沿橫向移動的橫向壓板,豎向壓板的下端設置有能沿豎向壓板下端面移動的固定板,橫向壓板的上端設置有導向組件,導向組件能帶動固定板同步移動,固定板與橫向壓板之間還設置有間隙補償組件。能夠?qū)Φ枋┘訂屋S向力的同時,能夠?qū)Φ璧膫?cè)壁施加壓力,使氮化硅側(cè)壁受到的壓力可調(diào)。 |
