一種LED倒裝芯片的紫光外延結(jié)構(gòu)及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201911424944.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110970533B | 公開(公告)日 | 2021-10-08 |
申請公布號 | CN110970533B | 申請公布日 | 2021-10-08 |
分類號 | H01L33/06(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 武杰;易翰翔;李玉珠;張洪安;陳慧秋 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東德力光電有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 | 代理人 | 顏希文;郝傳鑫 |
地址 | 529000廣東省江門市江海區(qū)彩虹路1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種LED倒裝芯片的紫光外延結(jié)構(gòu),自下而上依次包括:襯底、高溫AlGaN緩沖層、N型AlGaN電子阻擋層、超晶格N型AlGaN層、超晶格AlGaN/AlInGaN層、Alx1Iny1Ga1-x1-y1N/Alx2Iny1Ga1-x1-y1N發(fā)光有源區(qū)、最后一個AlX3Ga1-x1-y1N量子壘層、P型AlGaN/AIInGaN電子阻擋層、P型AlGaN層和接觸層;其中,Alx1Iny1Ga1-x1-y1N/Alx2Iny1Ga1-x1-y1N發(fā)光有源區(qū)包括多個交錯層疊設(shè)置的AlInGaN量子阱層和AlInGaN量子壘層,且AlInGaN量子阱層和AlInGaN量子壘層均為Al組分漸變層。本發(fā)明還公開了一種LED倒裝芯片的紫光外延結(jié)構(gòu)的制備方法。本發(fā)明既能減少由材料不同帶來的應(yīng)力及極化電場影響,又能降低GaN材料在365~370nm波段的吸光,提高發(fā)光效率。 |
