一種快速均勻化CVI致密坩堝的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021092472.1 申請日 -
公開（公告）號 CN212834136U 公開（公告）日 2021-03-30
申請公布號 CN212834136U 申請公布日 2021-03-30
分類號 C30B15/00(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I;C30B15/10(2006.01)I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 趙永尚;趙永雷;張全順;張彥利 申請（專利權）人 內(nèi)蒙古中晶科技研究院有限公司
代理機構 深圳市興科達知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 覃曼萍
地址 010070內(nèi)蒙古自治區(qū)呼和浩特市金橋開發(fā)區(qū)寶力爾街15號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種快速均勻化CVI致密坩堝的裝置，包括爐體，所述爐體底部固定設有天然氣孔，所述爐體內(nèi)設有石墨筒，所述天然氣孔與石墨筒相通設置，所述石墨筒內(nèi)從下到上依次設有三個篩板和三個坩堝，兩個篩板之間設有一個坩堝，所述篩板頂面邊緣處設有多個第一墊塊，所述第一墊塊上設有坩堝，所述篩板頂面中心處設有第二墊塊，所述第二墊塊頂面設有擋氣板，所述擋氣板設置在坩堝內(nèi)。本實用新型可以避免坩堝直接接觸，加大坩堝之間縫隙，讓天然氣向坩堝外部流通，保證坩堝內(nèi)外均勻沉積，增加產(chǎn)品沉積密度均勻性，提升產(chǎn)品品質(zhì)，提高客戶滿意度。??