光學(xué)正投幕
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120255695.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN214122676U | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-09-03 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN214122676U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-09-03 |
分類號(hào) | G03B21/60(2014.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 王朋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 浙江威賽尼科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州京諾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 肖金艷 |
地址 | 315000浙江省寧波市寧波高新區(qū)木槿路96號(hào)1#廠房A1 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種光學(xué)正投幕,其依次包括散射層、光柵層、隔離層、濾鏡層、反射陣列、基底光滲透層、基底補(bǔ)光層。所述光柵層中設(shè)有光柵,其可對(duì)來(lái)自投影屏幕前上方的環(huán)境光進(jìn)行遮擋吸收,從而有效過(guò)濾掉大部分的環(huán)境光;而未被光柵層過(guò)濾吸收掉的小部分環(huán)境光則會(huì)進(jìn)一步被濾鏡層過(guò)濾掉,從而極大的降低環(huán)境光對(duì)投影光的干擾,使得投影圖像基本不受環(huán)境光的影響,進(jìn)而大大提高投影畫(huà)面的對(duì)比度。所述散射層和隔離層則可抑制散斑,減弱散斑效果而提高顯示效果。所述反射陣列可對(duì)投影光進(jìn)行全方位反射,因而可大大增大可視角度。所述基底補(bǔ)光層可用于補(bǔ)光而提高亮度。本實(shí)用新型的抗光正投幕具有高亮度、高對(duì)比度、廣視角、防眩光的特點(diǎn),其具有很強(qiáng)的實(shí)用性。 |
