一種帶間級聯(lián)探測器及其制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011463550.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112582497A | 公開(公告)日 | 2021-03-30 |
申請公布號 | CN112582497A | 申請公布日 | 2021-03-30 |
分類號 | H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/109(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 黃文祥 | 申請(專利權(quán))人 | 睿創(chuàng)微納(無錫)技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李曉光 |
地址 | 214001江蘇省無錫市新吳區(qū)菱湖大道200號中國傳感網(wǎng)國際創(chuàng)新園G8-403-A | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種帶間級聯(lián)探測器及其制作方法,該帶間級聯(lián)探測器由多級級聯(lián)臺階構(gòu)成,每一級聯(lián)臺階包括電子勢壘層、超晶格吸收區(qū)和空穴勢壘層。第一至第三級超晶格吸收區(qū)采用InAs/InAsSb二類超晶格,既保持了帶間級聯(lián)探測器的自身優(yōu)勢,又可降低暗電流水平,從而改善帶間級聯(lián)探測器的探測率。?? |
