放射治療設(shè)備及其微波源
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201980010641.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN111699539A | 公開(公告)日 | 2020-09-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN111699539A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-09-22 |
分類號(hào) | H01J23/04(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 汪鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 成都七星天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 深圳聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司 |
地址 | 518067廣東省深圳市南山區(qū)工業(yè)六路創(chuàng)業(yè)壹號(hào)大樓C棟202-207室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┰诜派渲委熢O(shè)備中使用的微波源。微波源可以包括陽極塊和一個(gè)或以上陰極。微波源中的陰極可以包括具有至少兩個(gè)凹槽的陰極支撐元件。至少兩個(gè)凹槽可以軸向圍繞陰極支撐元件的四周。微波源可以包括陰極加熱器,其中包括至少一個(gè)燈絲。所述至少一個(gè)燈絲的第一部分可沿第一方向繞在陰極支撐元件上,并由至少兩個(gè)凹槽的第一部分容納,所述至少一個(gè)燈絲的第二部分可沿第二方向繞在陰極支撐元件上,并由至少兩個(gè)凹槽中的第二部分容納。?? |
