一種鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121827585.6 申請日 -
公開（公告）號 CN215365982U 公開（公告）日 2021-12-31
申請公布號 CN215365982U 申請公布日 2021-12-31
分類號 C23C26/00（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱松山;洪耀;李曉波;張民井;韓中偉 申請（專利權(quán)）人 棗莊睿諾電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京遠(yuǎn)智匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 林波
地址 277800山東省棗莊市高新區(qū)復(fù)元三路3168號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種鍍膜裝置，屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。所述鍍膜裝置包括腔體、轉(zhuǎn)動軸、傳動組件、驅(qū)動組件和基板架，轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動連接于腔體上，且轉(zhuǎn)動軸與腔體密封連接；傳動組件設(shè)置于腔體內(nèi)側(cè)，傳動組件的輸入端與轉(zhuǎn)動軸設(shè)置于腔體內(nèi)側(cè)的內(nèi)側(cè)端連接；驅(qū)動組件固定于腔體外側(cè)，驅(qū)動組件的輸出端與轉(zhuǎn)動軸設(shè)置于腔體外側(cè)的外側(cè)端連接；基板架設(shè)置于腔體內(nèi)，基板架一端與腔體沿第一方向滑動連接，傳動組件的輸出端與基板架的另一端連接，且基板架分別與腔體和傳動組件的輸出端絕緣連接。本實(shí)用新型的鍍膜裝置，降低了腔體失壓概率，提高了基板架移動的可靠性。