3D無損拋光設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201922353623.8 申請日 -
公開（公告）號 CN211681548U 公開（公告）日 2020-10-16
申請公布號 CN211681548U 申請公布日 2020-10-16
分類號 B24B31/10(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 唐志輝;黎偉;劉雙龍;易小虎;樂桂英;歐陽有糧;馬永恒 申請（專利權(quán)）人 昆山明創(chuàng)電子科技有限公司
代理機構(gòu) 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 范金榮;董建林
地址 215300江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮(zhèn)新城南路515號7號廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種3D無損拋光設(shè)備，包括兩個支撐架、架設(shè)在兩個支撐架中部的導(dǎo)軌，支撐架下方固定設(shè)置磁場發(fā)生裝置和驅(qū)動磁場發(fā)生裝置的第一電機，導(dǎo)軌上滑動設(shè)置可移動磁場端，可移動磁場端穿設(shè)絲杠，絲杠端部在第二電機驅(qū)動下旋轉(zhuǎn)以帶動可移動磁場端沿導(dǎo)軌左右移動，兩個支撐架頂部設(shè)置儲液槽，儲液槽內(nèi)充滿多個磁性件的拋光溶劑。磁性件為磁針。磁針兩端部圓滑過渡。導(dǎo)軌截面呈倒T型，可移動磁場端具有與導(dǎo)軌配合的凹槽。本實用新型的3D無損拋光設(shè)備拋光效率高、不易損傷拋光件，能夠?qū)Π夹颓婀ぜ犬愋渭颓度胧降目撞圻M行拋光處理。拋光到位、拋光精度較高。??