一種用于解決硅片表面清洗過程劃傷和沾污的底座裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023072823.5 申請日 -
公開（公告）號 CN213816083U 公開（公告）日 2021-07-27
申請公布號 CN213816083U 申請公布日 2021-07-27
分類號 H01L21/67（2006.01） 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張帥;梁興勃;盧飛紅;荊濤;劉亮榮;陸宇凡;盧鋒;劉建剛 申請（專利權(quán)）人 浙江金瑞泓科技股份有限公司
代理機構(gòu) 上海泰能知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王亮;孫健
地址 315800 浙江省寧波市保稅東區(qū)0125-3地塊
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種用于解決硅片表面清洗過程劃傷和沾污的底座裝置，包括底座，所述的底座呈長板狀結(jié)構(gòu)，該底座的上端面上沿著長度方向均勻開設(shè)有多個凹槽，所述的凹槽的兩側(cè)分別貫穿底座兩側(cè)的側(cè)壁，該凹槽的底面為斜面，所述的斜面上均勻布置有若干個孔洞，所述的孔洞呈豎直布置且下端貫穿底座的底面。本實用新型通過多個凹槽將片架一一分隔開來，硅片由于凹槽的斜面傾斜，硅片會通過自身重力作用斜靠到片架上，這樣可以有效避免硅片在清洗過程中由于相互吸附和碰撞，導(dǎo)致清洗后硅片表面出現(xiàn)劃傷和沾污，有利于提高硅片表面清洗質(zhì)量。