一種用于解決硅片表面清洗過(guò)程劃傷和沾污的底座裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023072823.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN213816083U 公開(kāi)（公告）日 2021-07-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN213816083U 申請(qǐng)公布日 2021-07-27
分類號(hào) H01L21/67（2006.01） 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張帥;梁興勃;盧飛紅;荊濤;劉亮榮;陸宇凡;盧鋒;劉建剛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 浙江金瑞泓科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海泰能知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王亮;孫健
地址 315800 浙江省寧波市保稅東區(qū)0125-3地塊
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種用于解決硅片表面清洗過(guò)程劃傷和沾污的底座裝置，包括底座，所述的底座呈長(zhǎng)板狀結(jié)構(gòu)，該底座的上端面上沿著長(zhǎng)度方向均勻開(kāi)設(shè)有多個(gè)凹槽，所述的凹槽的兩側(cè)分別貫穿底座兩側(cè)的側(cè)壁，該凹槽的底面為斜面，所述的斜面上均勻布置有若干個(gè)孔洞，所述的孔洞呈豎直布置且下端貫穿底座的底面。本實(shí)用新型通過(guò)多個(gè)凹槽將片架一一分隔開(kāi)來(lái)，硅片由于凹槽的斜面傾斜，硅片會(huì)通過(guò)自身重力作用斜靠到片架上，這樣可以有效避免硅片在清洗過(guò)程中由于相互吸附和碰撞，導(dǎo)致清洗后硅片表面出現(xiàn)劃傷和沾污，有利于提高硅片表面清洗質(zhì)量。