一種防止硅片放偏的自動探測控制系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202023072836.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214311426U | 公開(公告)日 | 2021-09-28 |
申請公布號 | CN214311426U | 申請公布日 | 2021-09-28 |
分類號 | G05B19/414(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 控制;調(diào)節(jié); |
發(fā)明人 | 李慎重;童科峰;田達晰;蔣玉龍;王震;袁東寧 | 申請(專利權)人 | 浙江金瑞泓科技股份有限公司 |
代理機構 | 上海泰能知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 王亮;宋纓 |
地址 | 315800浙江省寧波市保稅東區(qū)0125-3地塊 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種防止硅片放偏的自動探測控制系統(tǒng),包括外延機臺,外延機臺上設置有旋轉(zhuǎn)基座,旋轉(zhuǎn)基座上繞著中心呈環(huán)形陣列布置有若干個用于放置硅片的基座槽,旋轉(zhuǎn)基座的上方靠近基座槽中心的位置設置有第二測距傳感器,第二測距傳感器的一側(cè)靠近基座槽邊緣的位置設置有第一測距傳感器,第二測距傳感器和第一測距傳感器均與PLC控制器電性相連,PLC控制器與控制外延機臺的EAP控制執(zhí)行操作系統(tǒng)相連。本實用新型增加硅片裝入槽內(nèi)的自動探測和識別系統(tǒng),使用PLC采集和輸出數(shù)據(jù),利用EAP自動控制平臺,實現(xiàn)硅片位置偏離檢測技術監(jiān)控和實時反饋,有效防止異常外延片的產(chǎn)生,確保外延片質(zhì)量穩(wěn)定可靠。 |
