一種片狀銅顆粒及其制備方法、催化劑、電極
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201610801199.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106363165B | 公開(公告)日 | 2019-02-15 |
申請公布號 | CN106363165B | 申請公布日 | 2019-02-15 |
分類號 | B22F1/00;B22F9/24;C25B11/06;B01J23/72 | 分類 | 鑄造;粉末冶金; |
發(fā)明人 | 王可為;葛小玲;徐秀萍;崔映紅 | 申請(專利權(quán))人 | 國核(北京)核電常規(guī)島及電力工程研究中心有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 國核電力規(guī)劃設(shè)計研究院;國核(北京)核電常規(guī)島及電力工程研究中心有限公司 |
地址 | 100095 北京市海淀區(qū)中關(guān)村環(huán)保科技園地錦路6號國核電力院 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種片狀銅顆粒及其制備方法、催化劑、電極。本發(fā)明的制備方法包括:將銅鹽溶解于油酸和乙醇的體積比為1:0.25~1的混合溶劑中,加入表面活性劑,加入還原劑,得到銅鹽含量為1g/L~10g/L的混合溶液;將所述銅鹽含量為1g/L~10g/L的混合溶液裝入高壓反應(yīng)釜,在170~200℃的條件下反應(yīng)8~15小時,從而得到厚度的平均值為500nm以下,厚度的絕對偏差平均值為50nm以下,并且平面最大尺寸的平均值為5000nm~20000nm,平面最大尺寸的絕對偏差平均值為1500nm以下的片狀銅顆粒。該方法工藝簡單,得到的片狀銅顆粒尺寸均一、形狀規(guī)則、單分散性較好。 |
