碳化硅器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011280134.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114512531A | 公開(公告)日 | 2022-05-17 |
申請公布號 | CN114512531A | 申請公布日 | 2022-05-17 |
分類號 | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 龔軼;劉磊;劉偉;王睿 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州東微半導(dǎo)體股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 215123江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)20棟405-406 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種碳化硅器件,包括:位于所述碳化硅襯底內(nèi)且交替間隔設(shè)置的柵極溝槽和源極溝槽;位于柵極溝槽的柵極,柵極通過第一絕緣層與第二n型碳化硅層隔離,柵極通過第二絕緣層與p型半導(dǎo)體層和第三n型半導(dǎo)體層隔離;位于源極溝槽內(nèi)的源極,源極與p型碳化硅層和第三n型碳化硅層連接,源極通過第三絕緣層與源極溝槽的側(cè)壁位置處的第二n型碳化硅層隔離;位于第二n型碳化硅層內(nèi)且位于源極溝槽底部位置處的p型阱區(qū),p型阱區(qū)與源極在源極溝槽的底部位置相連接。本發(fā)明可以降低柵極被擊穿的風(fēng)險,并提高碳化硅器件的耐壓。 |
