一種高損傷閾值激光薄膜工藝技術(shù)方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201911404205.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN111679347A | 公開（公告）日 | 2020-09-18 |
| 申請公布號 | CN111679347A | 申請公布日 | 2020-09-18 |
| 分類號 | G02B1/115(2015.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 王平秋;魏濤;林先勇;何開倫;楊柳;張志斌;王金龍;于清;代禮密;姚德武;游中華;劉衛(wèi)強(qiáng);余小燕;楊洋;何堅;吳楊海;鄧漾;趙龍 | 申請（專利權(quán)）人 | 成都光明光學(xué)元件有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 中國兵器工業(yè)集團(tuán)公司專利中心 | 代理人 | 西南技術(shù)物理研究所;成都光明光學(xué)元件有限公司 |
| 地址 | 610041四川省成都市武侯區(qū)人民南路四段七號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種高損傷閾值激光薄膜工藝技術(shù)方法，屬于鍍制光學(xué)薄膜領(lǐng)域。本發(fā)明為克服常規(guī)激光薄膜鍍制技術(shù)在可見光和近紅外波段鍍制激光薄膜抗激光損傷閾值較低的缺點，通過以石英或K9作為鍍膜基底，以藍(lán)寶石作襯底膜料M，以HfO2作高折射率膜料H，以SiO2作低折射率膜料L，利用TFC給出各層膜系的幾何厚度和膜系順序計算結(jié)果；超聲波清洗和加溫烘烤所述鍍膜基底；在光學(xué)膜層粘接打底工藝和應(yīng)力匹配工藝中，將三種膜料依次放入電子槍蒸發(fā)源坩鍋舟內(nèi)，然后按各層膜系的幾何厚度和膜系順序完成鍍膜工藝；在鍍膜前和鍍膜過程中用離子源轟擊所述鍍膜基底。本發(fā)明的膜層堅硬牢固，抗激光損傷性能優(yōu)良，通透性能好，并能在野外惡劣環(huán)境長久使用。?? |
