一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022079239.6 申請日 -
公開(公告)號 CN212375378U 公開(公告)日 2021-01-19
申請公布號 CN212375378U 申請公布日 2021-01-19
分類號 C23C16/50(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 錢鋒;姚飛;王小東;廖運華;梁錦東;陳進(jìn)福 申請(專利權(quán))人 東莞帕薩電子裝備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳國海智峰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 東莞帕薩電子裝備有限公司
地址 523000廣東省東莞市寮步鎮(zhèn)塘唇管理區(qū)金富二路51號聚慧e谷高新科技園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備,包括抽真空機(jī)構(gòu)、反應(yīng)機(jī)構(gòu)及移送機(jī)構(gòu),抽真空機(jī)構(gòu)與反應(yīng)機(jī)構(gòu)相連通,移送機(jī)構(gòu)將待處理產(chǎn)品送入或取出反應(yīng)機(jī)構(gòu),反應(yīng)機(jī)構(gòu)包括反應(yīng)腔室、電極組件及承載組件,電極組件設(shè)置在反應(yīng)腔室的頂端并在反應(yīng)腔室的內(nèi)部移動,承載組件設(shè)置在反應(yīng)腔室的底端并在反應(yīng)腔室的內(nèi)部移動,電極組件包括至少一個出氣裝置,出氣裝置從上往下依次包括彌散管和彌散球頭,彌散管和彌散球頭均設(shè)有若干個均勻分布的彌散孔。以此可以使鍍膜氣體從彌散管和彌散球頭中全方位發(fā)散,確保鍍膜氣體能均勻地粘附在疫苗瓶內(nèi)壁,避免疫苗瓶內(nèi)壁出現(xiàn)鍍膜缺陷、不完整的問題,有利于提高疫苗瓶的生產(chǎn)質(zhì)量。??