高溫化學(xué)氣相沉積設(shè)備及其加熱系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510324880.2 申請日 -
公開（公告）號 CN104962881A 公開（公告）日 2015-10-07
申請公布號 CN104962881A 申請公布日 2015-10-07
分類號 C23C16/46(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 胡國新;胡強(qiáng);冉軍學(xué);梁勇;段瑞飛;王軍喜;李晉閩;曾一平 申請（專利權(quán)）人 新泰中科優(yōu)唯電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京和信華成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 新泰中科優(yōu)唯電子科技有限公司;山西中科潞安紫外光電科技有限公司
地址 271200 山東省泰安市新泰市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)新區(qū)和圣路與泰和路交叉路口路北
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高溫化學(xué)氣相沉積設(shè)備及其加熱系統(tǒng)，所述用于高溫化學(xué)氣相沉積設(shè)備的加熱系統(tǒng)包括發(fā)熱體，支撐在所述加熱體下部的發(fā)熱體支撐部件，與所述發(fā)熱體支撐部件連接的陶瓷絕緣件，設(shè)置在所述陶瓷絕緣件上部的熱輻射防護(hù)件，以及設(shè)置在所述陶瓷絕緣部件底部的隔熱部件。本發(fā)明提供的用于高溫化學(xué)氣相沉積設(shè)備的加熱系統(tǒng)，可以起到支撐、絕緣、輻射防護(hù)及保持溫度的作用，特別是對高溫化學(xué)氣相沉積設(shè)備的有效使用起到了完好的防護(hù)作用。