一種內(nèi)層板曝光機(jī)及其標(biāo)記方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911236436.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111221223B | 公開（公告）日 | 2021-02-26 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111221223B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-26 |
| 分類號(hào) | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 劉棟;張雷 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 源能智創(chuàng)（江蘇）半導(dǎo)體有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 215339江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮(zhèn)南淞路111號(hào)華平（昆山）智造園B-6號(hào)廠房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種內(nèi)層板曝光機(jī)及其標(biāo)定方法，所述內(nèi)層板曝光機(jī)包括運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、對(duì)位機(jī)構(gòu)和曝光機(jī)構(gòu)，所述對(duì)位機(jī)構(gòu)和曝光機(jī)構(gòu)置于所述運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的上方，所述運(yùn)動(dòng)平臺(tái)包括運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和基板臺(tái)面，其還包括標(biāo)記機(jī)構(gòu)，所述標(biāo)記機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于所述基板臺(tái)面一側(cè)邊緣左右對(duì)稱的多個(gè)標(biāo)記裝置和控制所述標(biāo)記裝置的標(biāo)記控制裝置，所述標(biāo)記控制裝置根據(jù)所述內(nèi)層板的大小控制所述標(biāo)記裝置位置的選擇。通過標(biāo)記機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)，在對(duì)內(nèi)層板進(jìn)行背面曝光時(shí)，有效的區(qū)分同時(shí)曝光的兩個(gè)內(nèi)層板，提高對(duì)位精度。?? |
