一種卷對卷曝光裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110478285.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113176716A 公開（公告）日 2021-07-27
申請公布號 CN113176716A 申請公布日 2021-07-27
分類號 G03F7/20 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 李波;劉棟;李偉成;張雷 申請（專利權(quán)）人 源能智創(chuàng)（江蘇）半導體有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 215399 江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮(zhèn)南淞路111號華平（昆山）智造園B-6號廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種卷對卷曝光裝置，用于柔性工件的雙面曝光，包括：基座、第一對位系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)、第二對位系統(tǒng)以及運動載臺系統(tǒng)，運動載臺系統(tǒng)包括運動基臺、放卷單元、第一曝光平臺、翻面組件、第二曝光平臺和收卷單元，放卷單元用于將柔性工件第一面向上供給至第一曝光平臺，經(jīng)由翻面組件將柔性工件第二面向上輸送至第二曝光平臺，最后由收卷單元進行柔性工件的收卷。通過同步運動的第一曝光平臺和第二曝光平臺分別在曝光系統(tǒng)和對位系統(tǒng)處完成曝光和對位，結(jié)合翻面組件對柔性工件進行翻面，能夠高效的實現(xiàn)柔性工件的雙面曝光。