一種用于基件卷對(duì)卷的曝光裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110153987.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113219791A | 公開(公告)日 | 2021-08-06 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113219791A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-06 |
分類號(hào) | G03F7/20 | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 李文章;張雷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 源能智創(chuàng)(江蘇)半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 215399 江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮(zhèn)南淞路111號(hào)華平(昆山)智造園B-6號(hào)廠房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種卷對(duì)卷曝光裝置及曝光方法,包括滾筒、傳動(dòng)輪組、曝光系統(tǒng),基件在所述傳動(dòng)輪組帶動(dòng)下貼附在所述滾筒圓周表面轉(zhuǎn)動(dòng)并完成曝光,還包括放料裝置、收料裝置、暫存料裝置,用于基件的收卷或/和放卷。本發(fā)明的卷對(duì)卷曝光裝置的基件通過滾筒上分布的真空吸附空形成負(fù)壓有效貼附在滾筒圓周表面并進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)及曝光,增加了基件在滾筒上的平整度,有效提升了基件的對(duì)準(zhǔn)及曝光效果;暫存料裝置在對(duì)第一面已曝光的基件收卷后可以實(shí)現(xiàn)反轉(zhuǎn),將第一面已曝光的基件放卷再次傳送到滾筒完成第二面曝光,節(jié)省了一套對(duì)位裝置及曝光裝置。 |
