一種降低晶圓應(yīng)力的屏蔽柵溝槽MOSFET的掩膜版
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202020766860.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212209483U | 公開(公告)日 | 2020-12-22 |
申請公布號 | CN212209483U | 申請公布日 | 2020-12-22 |
分類號 | H01L25/07(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陳橋梁;劉挺;王新;樓穎穎;楊樂 | 申請(專利權(quán))人 | 旭矽半導(dǎo)體(上海)有限公司 |
代理機構(gòu) | 西安新思維專利商標事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 龍騰半導(dǎo)體股份有限公司;旭矽半導(dǎo)體(上海)有限公司 |
地址 | 710018陜西省西安市未央?yún)^(qū)經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)鳳城十二路1號出口加工區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及一種降低晶圓應(yīng)力的屏蔽柵溝槽MOSFET的掩膜版,所述掩膜版包含由不同走向溝槽的芯片組成的芯片矩陣;所述芯片矩陣內(nèi)包含兩種芯片,其芯片尺寸面積和設(shè)計相同,僅溝槽走向不同,兩者的溝槽走向相互垂直。本實用新型將晶圓生產(chǎn)中產(chǎn)生的應(yīng)力通過不同圖形的排布相互抵消,實現(xiàn)較少減薄至200微米以下時,晶圓水平方向的翹曲度,便于后續(xù)的晶圓封裝和晶圓測試的自動化作業(yè),減少碎片引入的損失和沾污。?? |
