一種大尺寸超薄鈮酸鋰基片的雙面拋光方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911075696.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN110744364B | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-07-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110744364B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-13 |
| 分類(lèi)號(hào) | B24B1/00;C30B33/10;C30B29/30 | 分類(lèi) | 磨削；拋光; |
| 發(fā)明人 | 沈浩;王勤峰;徐秋峰;朱海瀛;丁孫杰;曹煥;湯卓倫 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 天通控股股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 浙江杭州金通專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 王麗丹 |
| 地址 | 314412 浙江省嘉興市海寧市鹽官鎮(zhèn)建設(shè)路1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種大尺寸超薄鈮酸鋰基片的雙面拋光方法，包括如下步驟：a）將切割后的大尺寸超薄鈮酸鋰晶片研磨后獲得表面具有粗糙結(jié)構(gòu)的大尺寸超薄鈮酸鋰雙面研磨片；b）然后進(jìn)行雙面減薄，超聲清洗，獲得表面具有粗糙結(jié)構(gòu)的大尺寸超薄鈮酸鋰雙面減薄片；c）在盛有硝酸、氫氟酸和緩釋劑均勻混合的密閉容器中直接進(jìn)行化學(xué)腐蝕，獲得表面隨機(jī)無(wú)序凹坑結(jié)構(gòu)的大尺寸超薄鈮酸鋰腐蝕片；d）用雙面拋機(jī)和拋光液進(jìn)行雙面拋光，再進(jìn)行超聲清洗，獲得最終的大尺寸超薄鈮酸鋰雙拋片。本發(fā)明一次拋光，批量生產(chǎn)，拋光效率高，生產(chǎn)的鈮酸鋰基片表面平坦度高，這一特征決定了鈮酸鋰基片在器件應(yīng)用中不易破碎，材料利用率高，加工成品率高。 |
