新型超材料及其制作工藝
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201210050499.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN103296441A | 公開(公告)日 | 2021-10-19 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103296441A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-19 |
分類號(hào) | H01Q15/00 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉若鵬;趙治亞;方小偉;郭文鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳光啟創(chuàng)新技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 518034 廣東省深圳市福田區(qū)香梅路1061號(hào)中投國(guó)際商務(wù)中心A棟18B | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種新型超材料及其制作工藝,該材料包括至少一材料片層,每一材料片層包括介質(zhì)襯底、光敏復(fù)合層及金屬圖層,所述光敏復(fù)合層位于所述介質(zhì)襯底和所述金屬圖層之間,所述金屬圖層通過(guò)所述光敏復(fù)合層固定在所述介質(zhì)襯底上。所述新型超材料的制作工藝包括以下步驟:S1、將介質(zhì)襯底平放固定于工作臺(tái);S2、將光敏材料涂抹在所述介質(zhì)襯底上,形成光敏復(fù)合層;S3、將人造金屬微結(jié)構(gòu)覆蓋在所述光敏復(fù)合層上,形成金屬圖層;S4、用紫外光對(duì)所述光敏復(fù)合層進(jìn)行照射,使所述光敏復(fù)合層固化。本發(fā)明制作工藝簡(jiǎn)單,通過(guò)該制作工藝可選擇多種材料作為超材料的介質(zhì)襯底,以滿足不同超材料電磁特性的需求,同時(shí)介質(zhì)襯底和金屬圖層結(jié)合更牢固。 |
