新型超材料及其制作工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201210050499.8 申請日 -
公開（公告）號 CN103296441B 公開（公告）日 2021-10-19
申請公布號 CN103296441B 申請公布日 2021-10-19
分類號 H01Q15/00 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 劉若鵬;趙治亞;方小偉;郭文鵬 申請（專利權）人 深圳光啟創(chuàng)新技術有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 518057 廣東省深圳市南山區(qū)高新區(qū)中區(qū)高新中一道9號軟件大廈2樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種新型超材料及其制作工藝，該材料包括至少一材料片層，每一材料片層包括介質襯底、光敏復合層及金屬圖層，所述光敏復合層位于所述介質襯底和所述金屬圖層之間，所述金屬圖層通過所述光敏復合層固定在所述介質襯底上。所述新型超材料的制作工藝包括以下步驟：S1、將介質襯底平放固定于工作臺；S2、將光敏材料涂抹在所述介質襯底上，形成光敏復合層；S3、將人造金屬微結構覆蓋在所述光敏復合層上，形成金屬圖層；S4、用紫外光對所述光敏復合層進行照射，使所述光敏復合層固化。本發(fā)明制作工藝簡單，通過該制作工藝可選擇多種材料作為超材料的介質襯底，以滿足不同超材料電磁特性的需求，同時介質襯底和金屬圖層結合更牢固。