一種電極箔化成裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011147345.1 申請日 -
公開（公告）號 CN112185716B 公開（公告）日 2021-11-02
申請公布號 CN112185716B 申請公布日 2021-11-02
分類號 H01G13/00（2013.01）I;H01G9/055（2006.01）N 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李輝;謝賜華;吳剛;陳凱歌;司永朋 申請（專利權(quán)）人 安徽普岡電子材料有限公司
代理機構(gòu) 合肥四閱專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李蘇
地址 246500安徽省安慶市宿松經(jīng)濟開發(fā)區(qū)宏業(yè)路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及電極箔生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種電極箔化成裝置，包括化成槽，化成槽的上端一側(cè)設(shè)置有放卷輥，且化成槽的上端位于放卷輥的一側(cè)等距離安裝有兩個上導向輥，化成槽的內(nèi)側(cè)位于上導向輥的正下方設(shè)置有接水槽，化成槽的一外側(cè)面由上至下等距離分布有三個輸液管，化成槽的外側(cè)面位于輸液管的一側(cè)設(shè)置有儲液箱，化成槽的另一外側(cè)面安裝有收集箱，且收集箱的一側(cè)連通有清水箱，化成槽的外側(cè)面對應(yīng)接水槽的一端處安裝有廢液槽，接水槽的上端內(nèi)側(cè)壁垂直安裝有清掃板。本設(shè)計解決了化成槽內(nèi)某一區(qū)域化成液濃度不達標導致均勻性差的問題，也避免導向輥表面粘附的化成液清除效果差，影響電極箔產(chǎn)品的外觀質(zhì)量的問題。