一種晶圓及光掩膜版
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010071690.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113224034A | 公開(公告)日 | 2021-08-06 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113224034A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-06 |
分類號(hào) | H01L23/544(2006.01)I;G03F1/38(2012.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 賴勝裕;尤宏昇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廈門凌陽華芯科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 田媛媛 |
地址 | 361000福建省廈門市湖里區(qū)火炬高新區(qū)火炬園火炬路56-58號(hào)火炬廣場(chǎng)南樓203-91 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)公開了一種晶圓及光掩膜版,晶圓包括晶圓本體、設(shè)置在晶圓本體上且經(jīng)過光掩膜版曝光后形成的多個(gè)芯片陣列,其中:相鄰兩個(gè)芯片陣列之間設(shè)置有劃片槽;每個(gè)芯片陣列中設(shè)置有多個(gè)微型半導(dǎo)體芯片,且相鄰兩個(gè)微型半導(dǎo)體芯片之間設(shè)置有切割道;切割道的寬度小于劃片槽的寬度,且切割道的寬度等于或大于用于對(duì)晶圓進(jìn)行切割的晶圓切割設(shè)備能夠切割的最小寬度。本申請(qǐng)公開的上述技術(shù)方案,在相鄰兩個(gè)芯片陣列之間設(shè)置切割道,并在每個(gè)芯片陣列中的相鄰兩個(gè)微型半導(dǎo)體芯片之間設(shè)置寬度小于劃片槽的寬度且等于或大于晶圓切割設(shè)備能夠切割的最小寬度的切割道,以提高晶圓的可用區(qū)域的面積,從而提高晶圓中微型半導(dǎo)體芯片的產(chǎn)出率。 |
