氧化反應(yīng)裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201520096004.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN204469676U | 公開(kāi)(公告)日 | 2015-07-15 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN204469676U | 申請(qǐng)公布日 | 2015-07-15 |
分類號(hào) | B01J8/02(2006.01)I;C01G49/02(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 蔡蕓;高福君;馬利群;張真慶;隆發(fā)云 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海一品顏料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海序倫律師事務(wù)所 | 代理人 | 上海一品顏料有限公司 |
地址 | 201814 上海市嘉定區(qū)嘉松北路4839號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種氧化反應(yīng)裝置,包括反應(yīng)區(qū)、氣液分布區(qū)和物料支撐件。氣液分布區(qū)設(shè)于反應(yīng)區(qū)之下,物料支撐件用于支撐第一容腔內(nèi)的反應(yīng)物,置于反應(yīng)區(qū)的底端。氣液分布區(qū)包括第二容腔、集氣室、1個(gè)以上氣體分布管和通氣口,集氣室設(shè)于第二容腔內(nèi),各個(gè)氣體分布管的一端布置于集氣室的周沿,通氣口置于集氣室之下。各個(gè)氣體分布管上均至少設(shè)有1個(gè)氣孔。本實(shí)用新型的氧化反應(yīng)裝置,使得氣體、料液和溫度等在反應(yīng)體系中實(shí)現(xiàn)均一分布,減少了反應(yīng)時(shí)間,提高了反應(yīng)速率。 |
