一種立式真空鍍膜室

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021952962.4 申請日 -
公開（公告）號 CN213232468U 公開（公告）日 2021-05-18
申請公布號 CN213232468U 申請公布日 2021-05-18
分類號 C23C14/22;C23C14/50 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 渠艷良;李雷 申請（專利權）人 派珂納米科技（蘇州）有限公司
代理機構 蘇州創(chuàng)策知識產權代理有限公司 代理人 范圓圓
地址 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)東富路32號4幢408室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種立式真空鍍膜室，包括鍍膜室和物料架；鍍膜室的頂部設有密封蓋，鍍膜室側壁的上端設有進氣口，下端設有出氣口，出氣口連接有抽真空管；鍍膜室的底部安裝有轉動盤，轉動盤的轉軸通過聯軸器與旋轉電機的輸出軸固定連接；物料架包括安裝板和物料板；物料板上設有多個一一對應的通孔和凸塊；安裝板上固定有多個支撐桿，物料板與支撐桿固定連接；鍍膜材料從上端的進氣口進入鍍膜腔之后向下擴散，在經過物料板時，對放置在物料板上或者吊掛在通孔下方的工件進行鍍膜，能有效提高鍍膜的均勻度，保證了鍍膜質量。