一種等離子體真空鍍膜室

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120090899.6 申請日 -
公開（公告）號 CN214458315U 公開（公告）日 2021-10-22
申請公布號 CN214458315U 申請公布日 2021-10-22
分類號 C23C16/50;C23C16/455;C23C16/458 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 渠艷良;李雷 申請（專利權）人 派珂納米科技（蘇州）有限公司
代理機構 蘇州創(chuàng)策知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 范圓圓
地址 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)東富路32號4幢408室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種等離子體真空鍍膜室，包括鍍膜室，鍍膜室的頂部設有密封蓋，底部設有出氣口；鍍膜室的側(cè)壁上設有進氣口，進氣口的內(nèi)側(cè)設有分流板；鍍膜室的底部安裝有轉(zhuǎn)動盤，轉(zhuǎn)動盤的轉(zhuǎn)軸通過聯(lián)軸器與旋轉(zhuǎn)電機的輸出軸固定連接；物料架放置在轉(zhuǎn)動盤上，物料架的外圍安裝有兩個相對設置的弧形電極板；利用分流板使反應氣體盡可能均勻的分布在鍍膜室內(nèi)，利用轉(zhuǎn)動盤驅(qū)動物料架旋轉(zhuǎn)，使反應物質(zhì)能均勻的沉積在工件表面，保證了鍍膜質(zhì)量。