一種雙氣化真空鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120090894.3 申請日 -
公開（公告）號 CN214458317U 公開（公告）日 2021-10-22
申請公布號 CN214458317U 申請公布日 2021-10-22
分類號 C23C16/54;C23C16/455 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 渠艷良;李雷 申請（專利權(quán)）人 派珂納米科技（蘇州）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州創(chuàng)策知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 范圓圓
地址 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)東富路32號4幢408室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種雙氣化真空鍍膜裝置，包括機(jī)架、分解管、分解爐、升華爐以及兩個并排設(shè)置的升華管；分解爐套設(shè)在分解管外且通過安裝支架固定安裝在機(jī)架上；升華管的進(jìn)料端設(shè)有端蓋，出料端安裝有閘閥；兩個升華管的出料端通過一個三通管與分解管的進(jìn)料端連通；升華爐通過移動組件滑動安裝在機(jī)架上；利用其中一個升華管鍍完一層膜之后，可直接將升華爐移動到另一個升華管外進(jìn)行二次鍍膜，有效提高鍍膜效率的同時無需破真空就能完成雙層鍍膜，避免污染。