一種光學(xué)元件高透射率高反射率測量裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121645823.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215893966U | 公開(公告)日 | 2022-02-22 |
申請公布號 | CN215893966U | 申請公布日 | 2022-02-22 |
分類號 | G01M11/02(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 陳堅;吳周令 | 申請(專利權(quán))人 | 合肥知常光電科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 合肥天明專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 韓燕;金凱 |
地址 | 230031安徽省合肥市高新區(qū)望江西路800號動漫基地C4樓2層208室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種光學(xué)元件高透射率高反射率測量裝置,包括有照射光源、第一分光裝置、第二分光裝置、參考反射裝置、標(biāo)定樣品和信號探測裝置。高透射率和高反射率檢測均可以在本實用新型的測量裝置上進行測量,不需要人為介入、調(diào)整,使用非常方便。本實用新型利用實時動態(tài)差分技術(shù),當(dāng)待測光學(xué)元件樣品的透反射率和標(biāo)定樣品的透反射率接近時,相當(dāng)于把對待測光學(xué)元件樣品的高透反射率測量轉(zhuǎn)變成對待測光學(xué)元件樣品和標(biāo)定樣品之間的透反射率差值的測量,即把一個大量轉(zhuǎn)成對一個小量的測量,而絕對測量誤差要求并沒有改變,這相當(dāng)于降低了對相對測量誤差的要求,降低了難度,從而保證了測量精度能夠滿足要求。 |
