一種雙光束相位差調(diào)制裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121645822.7 申請日 -
公開（公告）號 CN215893961U 公開（公告）日 2022-02-22
申請公布號 CN215893961U 申請公布日 2022-02-22
分類號 G01M11/00（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 張健;余霞;陳堅;周海峰 申請（專利權(quán)）人 合肥知常光電科技有限公司
代理機構(gòu) 合肥天明專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 韓燕;金凱
地址 230031安徽省合肥市高新區(qū)望江西路800號動漫基地C4樓2層208室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種雙光束相位差調(diào)制裝置，基于光學(xué)斬波器調(diào)制激光束原理，通過控制光學(xué)斬波器的位移量，來獲得雙光束的相位差。本實用新型采用機械式位移控制激光束相位差，且不受激光波長的影響，可控制任意波長分束后雙光束的相位差。本實用新型調(diào)制裝置可在不改變原光路的前提下，作為部分光路添加于光路中，且方法簡單快速，克服了多波長激光束相位差控制難、成本高的問題。