一種光學(xué)元件高透射率高反射率測量裝置及測量方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110815095.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113483996A | 公開(公告)日 | 2021-10-08 |
申請公布號 | CN113483996A | 申請公布日 | 2021-10-08 |
分類號 | G01M11/02 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 陳堅(jiān);吳周令 | 申請(專利權(quán))人 | 合肥知常光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 合肥天明專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 韓燕;金凱 |
地址 | 230031 安徽省合肥市高新區(qū)望江西路800號動漫基地C4樓2層208室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種光學(xué)元件高透射率高反射率測量裝置及測量方法,測量裝置包括有照射光源、第一分光裝置、第二分光裝置、參考反射裝置、標(biāo)定樣品和信號探測裝置。高透射率和高反射率檢測均可以在本發(fā)明的測量裝置上進(jìn)行測量,不需要人為介入、調(diào)整,使用非常方便。本發(fā)明利用實(shí)時動態(tài)差分技術(shù),當(dāng)待測光學(xué)元件樣品的透反射率和標(biāo)定樣品的透反射率接近時,相當(dāng)于把對待測光學(xué)元件樣品的高透反射率測量轉(zhuǎn)變成對待測光學(xué)元件樣品和標(biāo)定樣品之間的透反射率差值的測量,即把一個大量轉(zhuǎn)成對一個小量的測量,而絕對測量誤差要求并沒有改變,這相當(dāng)于降低了對相對測量誤差的要求,降低了難度,從而保證了測量精度能夠滿足要求。 |
