投影設(shè)備梯形校正方法、裝置、投影設(shè)備和介質(zhì)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110092644.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112422939A | 公開(公告)日 | 2021-02-26 |
申請公布號 | CN112422939A | 申請公布日 | 2021-02-26 |
分類號 | H04N9/31(2006.01)I;H04N9/64(2006.01)I | 分類 | 電通信技術(shù); |
發(fā)明人 | 劉正華;劉志超 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市橙子數(shù)字科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳中細(xì)軟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 袁文英 |
地址 | 518000廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道西麗社區(qū)同發(fā)南路萬科云城六期二棟2305房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請公開了一種投影設(shè)備梯形校正方法、裝置、投影設(shè)備和介質(zhì)。其中方法包括:在進(jìn)入校正狀態(tài)的情況下,通過步進(jìn)馬達(dá)調(diào)整投影設(shè)備所投影的對焦圖像的清晰度以進(jìn)行對焦;通過具有飛行時(shí)間功能的距離測量單元,獲得所述投影面的法向量;獲取所述投影設(shè)備的姿態(tài)傾斜角度和所述投影設(shè)備的投射比;根據(jù)所述投影面的法向量、所述投影設(shè)備的姿態(tài)傾斜角度和所述投影設(shè)備的投射比,計(jì)算獲得投影區(qū)域中的最大正矩形的四點(diǎn)坐標(biāo),完成梯形校正,所述投影區(qū)域?yàn)樗鐾队霸O(shè)備在所述投影面上的投影區(qū)域。?? |
