離子液體體系中共沉積Al?Zn合金鍍層的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410799196.5 申請日 -
公開（公告）號 CN104388992B 公開（公告）日 2017-08-29
申請公布號 CN104388992B 申請公布日 2017-08-29
分類號 C25D3/56(2006.01)I;C25D21/10(2006.01)I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 廖成;丁晶晶;江奕東;梅軍;劉煥明 申請（專利權(quán)）人 懷寧縣成科新材料研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 四川力久律師事務(wù)所 代理人 中物院成都科學(xué)技術(shù)發(fā)展中心;懷寧縣成科新材料研究院有限公司
地址 610200 四川省成都市青羊區(qū)八寶街90號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種離子液體體系中共沉積Al?Zn合金鍍層的方法。本發(fā)明所述方法是將金屬Cu片浸入鍍液中進(jìn)行恒電位電沉積處理；所述鍍液由二取代氯化咪唑?氯化鋁型離子液體和二取代氯化咪唑?氯化鋅型離子液體組成；所述二取代氯化咪唑?氯化鋁型離子液體由二取代氯化咪唑和AlCl3按照摩爾比為1：1～4組成，二取代氯化咪唑?氯化鋅型離子液體由二取代氯化咪唑和ZnCl2按照摩爾比為1：1～4組成；所述鍍液中Zn的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為1～5％；采用三電極體系，以金屬Cu片為工作電極，以金屬Zn片或Al片為對電極，以金屬Pt絲為參比電極；施加于工作電極的電壓為?1.0～?1.4V。該方法可以制備出成分精確可控的Al?Zn合金鍍層，表面致密、平整、均勻，且該方法能耗小，對環(huán)境無污染。