高潔凈度的曝光裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120858458.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN214918384U | 公開(公告)日 | 2021-11-30 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN214918384U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-30 |
分類號(hào) | B08B1/00(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;B08B17/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 伍佩銘;許迪;董鵬程;高輝;孫勝延;楊艷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 乾宇電子材料(東莞)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市恒程創(chuàng)新知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 王啟蒙 |
地址 | 523000廣東省東莞市松山湖園區(qū)工業(yè)西路14號(hào)1棟1704室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開一種高潔凈度的曝光裝置,該高潔凈度的曝光裝置包括基臺(tái)、第一清潔組件以及第二清潔組件,定義基臺(tái)具有上下方向和垂直上下方向的前后方向,基臺(tái)的上表面形成有工作臺(tái)面;第一清潔組件包括驅(qū)動(dòng)件和清潔刷,驅(qū)動(dòng)件設(shè)于基臺(tái),清潔刷連接于驅(qū)動(dòng)件,并抵接于工作臺(tái)面,清潔刷還可被驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)而在工作臺(tái)面上沿前后方向往復(fù)移動(dòng);第二清潔組件包括風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組和導(dǎo)風(fēng)罩,風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組設(shè)于基臺(tái),并位于工作臺(tái)面的左側(cè),且風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組的出風(fēng)端朝向工作臺(tái)面,導(dǎo)風(fēng)罩連通于風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組的出風(fēng)端,并沿朝向工作臺(tái)面的方向延伸設(shè)置。本實(shí)用新型技術(shù)方案能夠提高曝光裝置的曝光質(zhì)量。 |
