一種磁控濺射鍍膜設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921005002.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN210856323U | 公開（公告）日 | 2020-06-26 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN210856323U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-26 |
| 分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 張沖 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 北京卓熠新能源科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京華夏泰和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 地址 | 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)榮昌東街7號(hào)院6號(hào)樓3001室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及光伏設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種磁控濺射鍍膜設(shè)備。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的磁控濺射鍍膜設(shè)備，包括清洗腔室和鍍膜腔室，清洗腔室內(nèi)設(shè)有等離子清洗裝置，襯底采用等離子轟擊方式清洗，不需要用到有機(jī)溶劑，等離子體可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，可以使得清洗效率獲得極大的提高；同時(shí)避免使用有危害性的有機(jī)溶劑清洗劑，也避免了對(duì)清洗液的運(yùn)輸、存儲(chǔ)、排放等處理措施；并且第一樣品臺(tái)設(shè)有多個(gè)，這樣單次抽真空就可以對(duì)多個(gè)襯底進(jìn)行清洗和鍍膜作業(yè)，與現(xiàn)有的每一個(gè)襯底的鍍膜都開腔、關(guān)腔、抽真空的方式相比，減少了開關(guān)鍍膜腔室的次數(shù)，提高了鍍膜產(chǎn)出效率。?? |
