一種磁控濺射鍍膜設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921005002.4 申請日 -
公開（公告）號 CN210856323U 公開（公告）日 2020-06-26
申請公布號 CN210856323U 申請公布日 2020-06-26
分類號 C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張沖 申請（專利權）人 北京卓熠新能源科技有限公司
代理機構 北京華夏泰和知識產權代理有限公司 代理人 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
地址 100176北京市大興區(qū)北京經濟技術開發(fā)區(qū)榮昌東街7號院6號樓3001室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及光伏設備技術領域，具體涉及一種磁控濺射鍍膜設備。本實用新型實施例提供的磁控濺射鍍膜設備，包括清洗腔室和鍍膜腔室，清洗腔室內設有等離子清洗裝置，襯底采用等離子轟擊方式清洗，不需要用到有機溶劑，等離子體可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務，整個清洗工藝流程幾分鐘內即可完成，可以使得清洗效率獲得極大的提高；同時避免使用有危害性的有機溶劑清洗劑，也避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施；并且第一樣品臺設有多個，這樣單次抽真空就可以對多個襯底進行清洗和鍍膜作業(yè)，與現有的每一個襯底的鍍膜都開腔、關腔、抽真空的方式相比，減少了開關鍍膜腔室的次數，提高了鍍膜產出效率。??