一種AG防眩玻璃蝕刻工藝制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110041082.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112777941A | 公開(公告)日 | 2021-05-11 |
申請公布號 | CN112777941A | 申請公布日 | 2021-05-11 |
分類號 | C03C15/00 | 分類 | 玻璃;礦棉或渣棉; |
發(fā)明人 | 段偉偉;方闊;鄒國鵬 | 申請(專利權(quán))人 | 贛州帝晶光電科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 贛州智府晟澤知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 姜建華 |
地址 | 341000 江西省贛州市章貢區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園水西園區(qū)冶金路7號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種AG防眩玻璃蝕刻工藝制備方法,蝕刻液中直接添加一定比例的氟硅酸以滿足蝕刻反應(yīng)初期氟硅酸鹽的形成,達到反應(yīng)全流程均一性良好,催化劑明礬加快氟硅酸鹽的沉積效率,降低了反應(yīng)時間,避免局部被晶體覆蓋的進行蝕刻均勻性的狀態(tài),在反應(yīng)初期補充氟硅酸已滿足,初期的沉積效果良好,提升了表觀均一性,同步通過催化劑明礬加速晶體沉淀的速度,加快沉積速度并提升反應(yīng)進度,對均一性與透過率均有所提升,增加了氯化銨、硫酸鉀、硫酸鋇、氟硼酸鈉配合加入到體系中,調(diào)節(jié)了體系的鹽度,促進了晶核的形成和晶粒的細化,使蝕刻層變薄,保持影像的真實,提升了透過率,使制成的玻璃防眩程度良好,AG參數(shù)指標更為優(yōu)異。 |
