一種多方位溫度氣體可調(diào)高阻膜鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120081861.2 申請日 -
公開（公告）號 CN214400702U 公開（公告）日 2021-10-15
申請公布號 CN214400702U 申請公布日 2021-10-15
分類號 C23C14/54（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 段偉偉;曹孝佛;郭起濱;曾家旺 申請（專利權(quán)）人 贛州帝晶光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 贛州智府晟澤知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 姜建華
地址 341000江西省贛州市章貢區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園水西園區(qū)冶金路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種多方位溫度氣體可調(diào)高阻膜鍍膜設(shè)備，包括鍍膜腔體，所述鍍膜腔體的內(nèi)側(cè)設(shè)置有布?xì)夤?，所述布?xì)夤艿耐鈧?cè)開設(shè)有出氣口，所述出氣口對稱開設(shè)有多個，所述鍍膜腔體的內(nèi)側(cè)設(shè)置有溫度計(jì)，所述溫度計(jì)對稱設(shè)置有多個，所述鍍膜腔體的底端設(shè)置有第一氣管，所述第一氣管對稱設(shè)置有三個，所述第一氣管的外側(cè)設(shè)置有流量計(jì)，所述第一氣管的外側(cè)設(shè)置有第一控制閥，所述第一氣管的頂端設(shè)置有三通氣管。該多方位溫度氣體可調(diào)高阻膜鍍膜設(shè)備，第二氣管連接三通氣管，可控制氬氣與氧氣的進(jìn)入，接著是布?xì)夤?，布?xì)夤苋⒙?lián)在一起，每根布?xì)夤芏加信帕芯鶆蚍植嫉某鰵饪?，可以使氣體能均勻地到達(dá)靶面，保證膜層均勻。