一種陣列圖形繪制方法及系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111286402.9 申請日 -
公開（公告）號 CN114089604A 公開（公告）日 2022-02-25
申請公布號 CN114089604A 申請公布日 2022-02-25
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 涂先勤;尹鑫;吳塞 申請（專利權(quán)）人 杭州新諾微電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 浙江永鼎律師事務(wù)所 代理人 陸永強(qiáng);周祥玉
地址 311200浙江省杭州市蕭山區(qū)南陽街道巖峰村（自然村）772號-28
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種陣列圖形繪制方法，屬于光刻技術(shù)領(lǐng)域，它解決了現(xiàn)有技術(shù)中圖形繪制速度慢的問題。本陣列圖形繪制方法，包含如下步驟，S1；讀取矢量圖文件；S2、將矢量圖文件二值化；S3、提取圖形中的輪廓；S4、將提取的輪廓與模板庫中的輪廓進(jìn)行匹配；S5、將匹配后的模板進(jìn)行單元分組并記錄各單元位置；S6、對單元分組圖形進(jìn)行精細(xì)化繪制；S7、將精細(xì)化繪制后的單元分組圖形填充至步驟S5中記錄的對應(yīng)位置。本發(fā)明通過對矢量圖進(jìn)行處理，實現(xiàn)矢量圖中單元陣列圖形的提取，并對單元分組圖形進(jìn)行精細(xì)化繪制后，通過平移填充的方式恢復(fù)成光刻機(jī)可識別的位圖，供光刻機(jī)曝光，利用本方法可大大節(jié)約繪圖時間。