一種高阻隔性光學薄膜及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710025909.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106893127B | 公開(公告)日 | 2020-05-22 |
申請公布號 | CN106893127B | 申請公布日 | 2020-05-22 |
分類號 | C08J7/048;C09D129/04;C09D123/06;C09D169/00;C09D133/12;C09D125/06;C08L67/02;C08L69/00 | 分類 | 有機高分子化合物;其制備或化學加工;以其為基料的組合物; |
發(fā)明人 | 徐瑞璋;向愛雙;丁玲;張磊 | 申請(專利權(quán))人 | 武漢華彩光電有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京輕創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 陳衛(wèi) |
地址 | 430075 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)高新大道999號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及光學膜制備領(lǐng)域,具體涉及一種高阻隔性光學薄膜及其制備方法和應(yīng)用。該光學薄膜由光學基膜、氧氣阻隔膜和水汽阻隔膜復合而成,所述光學基膜的上表面涂有所述氧氣阻隔膜,所述氧氣阻隔膜的上表面涂有所述水汽阻隔膜,所述氧氣阻隔膜位于所述光學基膜與所述水汽阻隔膜之間。其制備方法包括:S1.疏水改性PVA阻隔液及隔水阻隔液的制備;S2.疏水改性PVA阻隔液的涂布及干燥;S3.隔水阻隔液的涂布及干燥。本發(fā)明提供的高阻隔性光學薄膜產(chǎn)品由光學基膜、氧氣阻隔膜和水汽阻隔膜三層復合而成,得到產(chǎn)品具有極低的透氧透水性,可用作量子點膜的外層阻隔膜或用作要求阻隔外界氧氣和水汽的食品包裝膜等;制備方法簡單,生產(chǎn)成本低。 |
