碳化硅晶片粗拋用金剛石拋光液及制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011433027.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112480825A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112480825A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-12 |
| 分類(lèi)號(hào) | C09G1/02(2006.01)I | 分類(lèi) | 染料；涂料；拋光劑；天然樹(shù)脂；黏合劑；其他類(lèi)目不包含的組合物；其他類(lèi)目不包含的材料的應(yīng)用; |
| 發(fā)明人 | 付存;付春淞;劉丹丹;王松娟;王泳;汪靜 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 河南聯(lián)合精密材料股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 鄭州優(yōu)盾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 王紅培 |
| 地址 | 450016河南省鄭州市鄭州經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)第十七大街與經(jīng)南八北二路交叉口東80米路北 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種碳化硅晶片粗拋用金剛石拋光液及制備方法，包括以下重量百分比的組分：金剛石磨料0.1?1%、油性劑3?10%、分散劑0.1?0.4%、改性脲溶液0.1?0.5%、活化劑0.1?0.5%、余量為基礎(chǔ)溶劑。采用本發(fā)明中磨料兩步處理法可有效提高多晶金剛石粉體利用率，同時(shí)有效的減少拋光液中超尺寸顆粒以及硬團(tuán)聚體存在導(dǎo)致的劃傷問(wèn)題；本發(fā)明采用改性脲溶液作為有機(jī)懸浮劑，拋光液長(zhǎng)期放置無(wú)明顯分層現(xiàn)象，與無(wú)機(jī)懸浮劑，如疏水改性氣相法白炭黑，有機(jī)膨潤(rùn)土相比，拋光廢屑不易粘附在拋光盤(pán)上，易清洗。?? |
