一種熔解曲線濾波方法、裝置、電子設備及存儲介質(zhì)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111269633.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114121165A | 公開(公告)日 | 2022-03-01 |
申請公布號 | CN114121165A | 申請公布日 | 2022-03-01 |
分類號 | G16B45/00(2017.01)I | 分類 | 物理 |
發(fā)明人 | 楊智;李冬;余海;賀賢漢 | 申請(專利權(quán))人 | 杭州博日科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人 | 董艷芳 |
地址 | 310000浙江省杭州市濱江區(qū)高新技術產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)濱安路1192號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請?zhí)峁┝艘环N熔解曲線濾波方法、裝置、電子設備及存儲介質(zhì),涉及熒光定量檢測技術領域,包括:采集熒光定量熔解實驗中熒光強度數(shù)據(jù),對所述熒光強度數(shù)據(jù)進行平滑處理;對平滑后熒光強度數(shù)據(jù)進行三次樣條插值,獲得三次樣條插值曲線;計算三次樣條插值曲線各點的負一階導數(shù)數(shù)值,得到初始熔解曲線;利用MODWT對初始熔解曲線進行濾波處理,獲得濾波后的熔解曲線。針對分辨率較低的熒光強度數(shù)據(jù),本申請能夠獲得濾波效果好,精度高的熔解曲線。 |
